產(chǎn)品詳細(xì)介紹 抬起模式：該工作模式分兩個(gè)階段,第一階段與普通原子力顯微鏡形貌成像一樣，在探針與樣品間距1nm以內(nèi)成像，然后，將探針抬起并一直保持相同距離，進(jìn)行第二次掃描，該掃描過程可以對(duì)一些相對(duì)微弱但作用程較長(zhǎng)的作用力進(jìn)行檢測(cè)，如磁力或靜電力。
磁力顯微鏡（Magnetic Force Microscope -- MFM）：控制磁性探針在磁性樣品表面進(jìn)行逐行掃描,利用抬起模式進(jìn)行二次成像，獲得樣品納米尺度局域上磁疇結(jié)構(gòu)及分布圖。
靜電力顯微鏡（Electrostatic Force Microscope -- EFM）：控制導(dǎo)電探針在樣品表面進(jìn)行逐行掃描，利用抬起模式二次成像，獲得樣品納米尺度局域上靜電場(chǎng)分布圖。 |
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