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產(chǎn)品型號(hào)：PR一500型
產(chǎn)品代碼：
產(chǎn)品價(jià)格：
計(jì)量單位：臺(tái)
折 扣 率： 0
最后更新：2013-09-17
關(guān) 注 度：4408
生產(chǎn)企業(yè)：杭州耀博生物科技有限公司
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產(chǎn)品詳細(xì)介紹耀博生物科技
低溫等離子體材料極化器
BOQUAN BIO TECH
低溫等離子體在材料極化中應(yīng)用簡(jiǎn)介
低溫等離子體的產(chǎn)生
等離子體是自然界中存在的一種物質(zhì)狀態(tài)(即固體、液體和氣體之外的第四態(tài))。低溫等離子體通常是在幾帕到幾百帕的真空環(huán)境下，利用特定電磁波電場(chǎng)作用，使某些中性氣體的分子產(chǎn)生連續(xù)不斷的電離，形成帶負(fù)電荷和等量帶正電荷的離子相互共存的物質(zhì)狀態(tài)，當(dāng)電離率與復(fù)合率達(dá)到平衡時(shí)，這種穩(wěn)定存在的物質(zhì)形態(tài)稱為等離子體。同一種物質(zhì)的不同狀態(tài)表示這種物質(zhì)中粒子所具有不同的能量，等離子體是一種能量更高的物質(zhì)聚集態(tài)，組成它的不僅有分子和原子，還有許多帶電粒子，其粒子的能量約從幾eV到幾千eV，因而，具有特殊的性能，在與物質(zhì)的相互作用中會(huì)產(chǎn)生許多特殊的物理和化學(xué)效應(yīng)。
低溫等離子體在材料表面極化中的作用
物理變化：
刻蝕：等離子體中的粒子和材料表面的分子原子結(jié)合形成揮發(fā)性的產(chǎn)物，并從材料表面脫離揮發(fā)，可使材料表面粗糙化。
解吸：等離子體中粒子的能量傳給材料表面的分子、原子，使這些原子分子被解吸離開材料表面，這通常用于許多物料(如芯片、集成電路等)的放電干洗。
濺射：等離子體中的高能粒子穿過材料表面進(jìn)入材料內(nèi)部，并把能量傳遞給材料內(nèi)部的原子、分子，使它們從表面濺射出來，這是離子濺射鍍膜的重要工作機(jī)理。
注入：具有一定能量的離子或中性粒子轟擊材料表面，并打入材料內(nèi)部和內(nèi)部的分子原子相結(jié)合，即離子注入。也是表面改性的一種手段。
化學(xué)變化：
氧化：等離子體中具有高能量的原子態(tài)氧或分子態(tài)氧與材料表面分子發(fā)生氧化反應(yīng)，并使材料表面引進(jìn)含氧基因。氧化分解又使表面的刻蝕加重。
分解和裂解： 等離子體可使材料表面分子分解形成揮發(fā)性產(chǎn)物而脫離。
交聯(lián)：等離子體使材料表面產(chǎn)生大分子自由基，進(jìn)而產(chǎn)生交聯(lián)，形成一層薄薄的交聯(lián)層。
聚合：等離子體態(tài)聚合(PSP)是聚合性的氣體等離子體中一些活•性粒子聚合并沉積在材料表面，形成聚合膜；而等離子體誘導(dǎo)聚合(Pl P)是材料表面在等離子體的轟擊下，產(chǎn)生很多自由基，這些自由基與其它氣體單體結(jié)合，在材料表面形成聚合膜。
接技：等離子體對(duì)材料處理可使材料表面引進(jìn)所需要的官能團(tuán)，包括液相接技和氣相接技。
低溫等離子體在科研應(yīng)用研究方面具有多種新型用途
高分子材料表面處理：
利用等離子體所特有的物理及化學(xué)作用，對(duì)高分子材料表面進(jìn)行接技、聚合、交聯(lián)、氧化刻蝕等改性處理，以提高材料各種質(zhì)量及使用性能指標(biāo)，是新材料的研制和處理的重要手段；
良種育種前表面處理：
作為一種物理手段，可模擬宇宙射線對(duì)農(nóng)作物種子表面處理，催動(dòng)種子的發(fā)育，改變和促進(jìn)種子及植株的一系列化學(xué)效應(yīng)和生物效應(yīng)；并可低溫消毒，具有減少病蟲害提高出芽率等作用。
物理催化：將化工反應(yīng)物氣態(tài)等離子化，利用其高能粒子的特性可在低溫條件下加快反應(yīng)速度，提高反應(yīng)效率，是21世紀(jì)綠色化工的一項(xiàng)重要的物理催化手段。
特點(diǎn)
PR一500型低溫等離子體材料極化器，是一種新型、通用型材料處理、試驗(yàn)裝置。與國(guó)內(nèi)外同類產(chǎn)品相比，具有顯著特點(diǎn)：
●反應(yīng)室容積大、適用多種材料類型產(chǎn)品的處理、操作簡(jiǎn)單；
●等離子體激發(fā)控制穩(wěn)定、連續(xù)調(diào)諧，電流、電壓顯示清晰；
●材料處理方法多選、運(yùn)行參數(shù)自定，環(huán)境污染小，節(jié)能。
設(shè)備型號(hào)：PR一500型
反應(yīng)室容積：415mm×345mm×370mm
等離子體激發(fā)源：13.56MHz射頻源
等離子體功率：最大500W
等離子體調(diào)諧：O一500W連續(xù)可調(diào)
等離子體檢測(cè)：專用輸入及反射功率計(jì)
真空度測(cè)量：專用真空計(jì)
量程10×103~×10-1Pa
進(jìn)氣流量控制：不銹鋼針閥及轉(zhuǎn)子流量計(jì)
量程0．03一O．3L／min
低沸點(diǎn)液體氣化室：電熱，室溫一100℃
整機(jī)體積：860mm×530mm×550mm
使用電源：AC 220V 50H z
安裝要求：可直接放置在實(shí)驗(yàn)臺(tái)上連接真空泵后即可
使用，安裝簡(jiǎn)便
配套真空泵：2xz一4型直聯(lián)式真空泵(選購)，
配裝專用高真空電磁閥(選購)
指標(biāo)
用途
適用于大專院校化工材料專業(yè)、紡織印染專業(yè)、農(nóng)林專業(yè)及相關(guān)科研單位對(duì)高分子材料表面的等離子體處理、良種育種表面處理及綠色化工等科研實(shí)驗(yàn)研究及少量產(chǎn)品加工處理。亦可用于電子產(chǎn)品企業(yè)對(duì)芯片、集成電路板及其它需要表面干性清洗處理的物品進(jìn)行等離子清洗。
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| 會(huì)員級(jí)別：免費(fèi)會(huì)員 |
| 加入時(shí)間：2013-08-29
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